ACM Research entregó su primer sistema de pista de Krf de alto rendimiento de alto rendimiento a un cliente principal de la oblea lógica china Fab Fab

Nuevo Ultra Lith _KRF El sistema de seguimiento ofrece un rendimiento de alto rendimiento con un diseño de plataforma patentado, impulsando el control de procesos avanzado para aplicaciones de litografía de nodos maduros

Fremont, California, 07 de septiembre de 2025 (Globe Newswire) – ACM Research, Inc. (“ACM”) (NASDAQ: ACMR), un proveedor líder de soluciones de procesamiento de obleas y paneles para semiconductores y aplicaciones de embalaje avanzadas, anunció hoy el lanzamiento de su primer Ultra Lith _KRF Sistema de pista, diseñado para admitir la fabricación de semiconductores frontales. El nuevo sistema expande la línea de productos de litografía de ACM y ofrece un rendimiento de alto rendimiento, control térmico avanzado y control y monitoreo de procesos en tiempo real. El primer sistema fue enviado a un cliente fabuloso de oblea lógica china líder en septiembre de 2025.

ACM’s Ultra Lith _KRF El sistema de seguimiento se basa en la arquitectura probada y los logros de procesos de la plataforma ARF Track de ACM, que completó con éxito la verificación de procesos de línea de demostración con un cliente chino líder a fines de 2024. Ese sistema demostró la uniformidad de recubrimiento de nivel sub-angstrom, el control térmico avanzado y la capacidad de coincidencia de CD alineada con escáner ASML: la base de la base para la base de la optimización de diseño en la plataforma KRF KRF KRF.

“El lanzamiento de ACM’s Ultra Lith _KRF El sistema de seguimiento expande la presencia de ACM en los equipos de proceso front-end y refleja nuestro compromiso de abordar una gama más amplia de desafíos de litografía “, dijo el Dr. David Wang, presidente y director ejecutivo de ACM.” La litografía de KRF sigue siendo esencial para los dispositivos de nodos maduros, que ACM cree que representa una gran y creciente parte de la salida de semiconductores globales. Al ofrecer sistemas de pista ARF y KRF, ACM permite una integración fabulosa perfecta y una mayor flexibilidad de fabricación en diversas aplicaciones “.

ACM’s Ultra Lith _KRF Track System presenta una configuración de módulo de proceso flexible, que incluye 12 recientes giratorios y 12 desarrolladores (12C12D), respaldados por 54 placas calientes capaces de procesamiento bajo, medio y de alta temperatura con uniformidad térmica líder en la industria. El sistema logra un rendimiento de más de 300 obleas por hora (WPH) e incorpora la tecnología patentada de la unidad de eliminación de partículas traseras (BPRV) de ACM para minimizar el riesgo de contaminación cruzada. Además, la unidad integrada de inspección atípica a escala de a escala (WSOI) permite la detección de la variación del proceso en tiempo real y el monitoreo de anomalías de rendimiento, mejora la estabilidad del proceso y la eficiencia de producción.

Declaraciones con avance

Ciertas declaraciones contenidas en este comunicado de prensa no son hechos históricos y pueden ser declaraciones con visión de futuro en el sentido de la Ley de Reforma de Litigios de Valores Privados de 1995. Palabras como “planes”, “espera”, “cree”, “anticipa”, “diseñados” y están destinadas a identificar declaraciones de apogeo. Las declaraciones prospectivas se basan en las expectativas y creencias actuales de la gerencia de ACM e implican una serie de riesgos e incertidumbres que son difíciles de predecir y que podrían hacer que los resultados reales difieran materialmente de los establecidos o implicados por las declaraciones con visión de futuro. Una descripción de algunos de estos riesgos, incertidumbres y otros asuntos se puede encontrar en las presentaciones que ACM realiza con la Comisión de Bolsa y Valores de EE. UU., Todos los cuales están disponibles en http://www.sec.gov. Debido a que las declaraciones prospectivas implican riesgos e incertidumbres, los resultados y eventos reales pueden diferir materialmente de los resultados y los eventos que actualmente esperan ACM. Se advierte a los lectores que no confiaran indebidamente en estas declaraciones prospectivas, que solo hablan a partir de la fecha del presente. ACM no tiene ninguna obligación de actualizar públicamente estas declaraciones prospectivas para reflejar eventos o circunstancias que ocurren después de la fecha del presente o para reflejar ningún cambio en sus expectativas con respecto a estas declaraciones prospectivas o la ocurrencia de eventos no anticipados.

Acerca de ACM Research, Inc.

ACM desarrolla, fabrica y vende equipos de proceso de semiconductores que abarcan la limpieza, electroplatación, pulido sin estrés, procesos de horno vertical, vía, PECVD y herramientas de embalaje a nivel de oblea y panel, que permite la fabricación avanzada y semiconductora de dispositivos semiconductores. ACM se compromete a ofrecer soluciones de proceso personalizadas, de alto rendimiento y rentables que los fabricantes de semiconductores pueden usar en numerosos pasos de fabricación para mejorar la productividad y el rendimiento del producto. Para más información, visite http://www.acmr.com.

© ACM Research, Inc. Ultra Lith y el logotipo de ACM Research son marcas comerciales de ACM Research, Inc. Por conveniencia, estas marcas comerciales aparecen en este comunicado de prensa sin símbolos ™, pero esa práctica no significa que ACM no afirmará, en el máximo grado de ley aplicable, sus derechos a tales marcas comerciales. Todas las demás marcas comerciales son propiedad de sus respectivos dueños.